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  • VCM-210HMDS真空鍍膜機
    VCM-210HMDS真空鍍膜機

    HMDS真空鍍膜機化學(xué)名叫六甲基二硅胺烷(別名六甲基二硅氮烷),又稱HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng),指需在低真空度下進行的鍍膜。對箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制,可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量,所有工藝都在密閉的環(huán)境中進行,沒有HMDS揮發(fā),提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃

    更新時間:2024-11-12型號:VCM-210
  • VCM-125HMDS真空鍍膜機
    VCM-125HMDS真空鍍膜機

    HMDS真空鍍膜機化學(xué)名叫六甲基二硅胺烷(別名六甲基二硅氮烷),又稱HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng),指需在低真空度下進行的鍍膜。對箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制,可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量,所有工藝都在密閉的環(huán)境中進行,沒有HMDS揮發(fā),提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃

    更新時間:2024-11-12型號:VCM-125
  • VCM-90HMDS真空鍍膜機
    VCM-90HMDS真空鍍膜機

    HMDS真空鍍膜機化學(xué)名叫六甲基二硅胺烷(別名六甲基二硅氮烷),又稱HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng),指需在低真空度下進行的鍍膜。對箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制,可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量,所有工藝都在密閉的環(huán)境中進行,沒有HMDS揮發(fā),提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃

    更新時間:2024-11-12型號:VCM-90
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